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UV光氧等離子凈化設(shè)備工藝原理
來源:www.xcf518.com 發(fā)布時間:2020年09月09日

UV光氧等離子凈化設(shè)備UV光氧設(shè)備和低溫等離子設(shè)備組成,采用填料塔對廢氣進行凈化,適合于連續(xù)和間歇排放廢氣的治理;工藝簡單,管理、操作及維修相當(dāng)方便簡潔,不會對車間生產(chǎn)造成任何影響。

UV光氧等離子凈化設(shè)備使用范圍廣,可同時凈化多種污染物;壓降較低,操作彈性大,且具有很好的除霧性能;塔體可根據(jù)實際情況采用不銹鋼/塑料(PP/PVC)等材料制作。

UV光氧等離子凈化設(shè)備工藝原理:

1、利用高臭氧紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進而產(chǎn)生臭氧。UV+O2O-+O*(活性氧)O+O2O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用,對有機氣體及其它*激性異味有立竿見影的   效果。有機性氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后,運用   紫外線光束及臭氧對有機(異味)氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使有機氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風(fēng)管道排出室外。

2、離子空氣凈化系采用正負雙極電離技術(shù)。在電場作用下,離子發(fā)生器產(chǎn)生大量的a粒子,a粒子與空氣中的氧分子進行碰撞而形成正負氧離子。正氧離子具有很強的氧化性,能在極短的時間內(nèi)氧化分解甲硫醇、氨、硫化氫等污染因子,且在與VOC分子相接觸后打開有機揮發(fā)性氣體的化學(xué)鍵,經(jīng)過一系列的反應(yīng)后   終生成二氧化碳和水等穩(wěn)定無害的小分子。同時氧離子能破壞空氣中細菌的生存環(huán)境,降低室內(nèi)細菌濃度。帶電離子可以吸附大于自身重量幾十倍的懸浮顆粒,靠自重沉降下來,從而   空氣中懸浮膠體達到凈化空氣的目的

3、催化劑(二氧化鈦)在受到紫外線光照射時生成化學(xué)活潑性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基,攻擊有機物,達到降解有機物的作用。二氧化鈦屬于非溶出型材料,在   分解有機污染物和殺   的同時,自身不分解、不溶出,光催化作用持久,并具有持久的殺菌、降解污染物效果。

UV光氧等離子凈化設(shè)備利用高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進而產(chǎn)生臭氧。

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